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  • 产品描述
  • 真空气氛箱式炉是一种可在真空或可控气氛环境下进行高温热处理的精密实验设备。该设备采用高洁净度的石英腔体,配合精密的温度控制系统与气体氛围调控系统,能够满足对材料洁净度与处理气氛有严苛要求的工艺。其广泛应用于金属热处理、锂电池材料、半导体及电子材料研发等领域。

     

    系统参数:

    产品名称

    真空气氛炉

    产品型号

    ZKX-200F

    最高温度

    1100℃

    工作温度

    ≤1000℃

    炉膛尺寸

    φ210/φ200×385mm

    恒温区

    φ200×200mm

    承重范围

    ≤3Kg

    炉胆材质

    石英

    加热元件

    电阻丝

    测温元件

    热电偶K偶

    升温速率

    0-1000℃≤10℃/min;1000℃~1100℃≤5℃/min

    控温方式

    智能化30段可编程控制(PID独立控制调节)

    控温精度

    ±1℃

    真空度

    真空度:≥1.0×103Pa;中真空度:≥1×102Pa(用机械泵8L)

    额定电压

    220V

    额定功率

    10KW

    炉体尺寸

    570×915×640mm(深×宽×高)

    标准配置

    气路总成一套(含真空压力表),石英胆一个,隔热堵一个,钩子一把,手套一副

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